Als 3-amino-5-mercapto-1,2 wordt ingeademd, 4-triazol, breng de patiënt dan in de frisse lucht; in geval van contact met de huid, de besmette kleding uittrekken en de huid grondig wassen met water en zeep. Als u zich ongemakkelijk voelt, zoek dan medisch advies; bij helder oogcontact de oogleden scheiden, met stromend water of een normale zoutoplossing spoelen en onmiddellijk medisch advies inwinnen; bij inslikken onmiddellijk gorgelen, geen braken opwekken en onmiddellijk medisch advies inwinnen.

Het wordt gebruikt om een ​​fotoresist-reinigingsoplossing te bereiden

Bij het gebruikelijke fabricageproces van LED's en halfgeleiders wordt het masker van fotoresist gevormd op het oppervlak van sommige materialen en wordt het patroon na belichting overgedragen. Nadat het vereiste patroon is verkregen, moet de resterende fotoresist worden verwijderd voor het volgende proces. Bij dit proces is het vereist om de onnodige fotolak volledig te verwijderen zonder enig substraat te corroderen. Momenteel bestaat de reinigingsoplossing voor fotolak voornamelijk uit polair organisch oplosmiddel, sterke alkali en / of water, enz. De fotolak op de halfgeleiderwafel kan worden verwijderd door de halfgeleiderchip in de reinigingsvloeistof onder te dompelen of door de halfgeleiderchip te wassen met de reinigingsvloeistof .

Er is een nieuw type reinigingsoplossing voor fotolak ontwikkeld, een niet-waterig, laag etsend reinigingsmiddel. Het bevat: alcoholamine, 3-amino-5-mercapto-1,2,4-triazool en cosolvent. Dit soort fotoresist-reinigingsoplossing kan worden gebruikt om fotoresist in LED en halfgeleider te verwijderen. Tegelijkertijd tast het de ondergrond, zoals metaalaluminium, niet aan. Bovendien heeft het systeem een ​​sterke waterbestendigheid en vergroot het zijn bedieningsvenster. Het heeft goede toepassingsmogelijkheden op het gebied van LED- en halfgeleiderchipsreiniging.